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渗层出现大量残余奥氏体产生的原因和对策

时间:2014-03-22 15:49:52  来源:  作者:

缺陷产生原因:s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE
1  奥氏体较稳定,奥氏体中碳及合金元素的含量较高s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE
2  回火不及时,奥氏体热稳定化s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE
3  回火后冷却太慢s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE
对策:s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE
1  表面碳浓度不宜太高s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE
2  降低直接淬火或重新加热淬火温度,控制心部铁素体的级别≤3s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE
3  低温回火后快冷s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE
4  可以重新加热淬火,冷处理,也可高温回火后重新淬火s3l热处理技术网 — 热处理行业的超级智库 CHTE 最全的热处理技术信息网站 热处理技术网 CHTE

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